背层技术的倍频YAG激光晶化多晶硅

来源 :2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chenman1982
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提出一种采用背面保温层的2倍频YAG激光晶化多晶硅技术.采用此技术后,晶化后的多晶硅薄膜的晶粒尺寸与霍耳迁移率都提高了将近一倍.此技术具有两种效应:保温效应和自加热效应。同时,此技术与传统的覆盖层技术相比还具有工艺相对简单和较宽的工艺窗口等特点.
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