【摘 要】
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<正>二氧化铪(HfO2)是一种具有较高介电常数的氧化物。作为一种介电材料,因其较高的介电常数值(～20),较大的禁带宽度(～5.5eV),以及在硅基底上良好的稳定性,HfO2被认为是替代场
【机 构】
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天津大学化工学院,绿色合成与转化教育部重点实验室; 德克萨斯大学奥斯汀分校化学工程系;
【基金项目】
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美国NSF基金(DMR-060646和NNINECS-0335765)资助项目
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<正>二氧化铪(HfO2)是一种具有较高介电常数的氧化物。作为一种介电材料,因其较高的介电常数值(～20),较大的禁带宽度(～5.5eV),以及在硅基底上良好的稳定性,HfO2被认为是替代场效应晶体管中传统SiO2介电层的理想材料[1]。在催化方面,HfO2可作为VOx的附载物,而负载型VOx作为
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