【摘 要】
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通过潘宁放电等离子体增强化学气相沉积技术(PDPs)，以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体，在载玻片、单晶硅片、PET等基材上沉积氧化硅薄膜。在薄膜的制备工艺中，通过
【机 构】
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北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理以及材料研究室
【出 处】
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第二届全国纳米技术在包装领域应用研讨会
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通过潘宁放电等离子体增强化学气相沉积技术(PDPs)，以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体，在载玻片、单晶硅片、PET等基材上沉积氧化硅薄膜。在薄膜的制备工艺中，通过改变放电气体的工作压强、放电功率、沉积时间和氧气和单体的比例来研究所制备二氧化硅薄膜的阻隔性能。通过傅立叶红外光谱仪(FTIR)表征，分析沉积膜的化学结构成分；采用透湿、透氧测试仪测试薄膜的阻隔性能，探讨工艺参数的变化对薄膜表面的成分和阻隔性能影响。
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