电参数对ZK60镁合金微弧氧化膜层显微结构与性能的影响

来源 :2010中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:feifei1988000
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  本文对置于硅酸钠溶液中的ZK60镁合金进行微弧氧化处理,通过SEM、EDS及全浸实验等手段研究了电流密度、频率、占空比和氧化时间等电参数对膜层的厚度、微观形貌、耐蚀性的影响。结果表明,单变量电流密度越高,对应膜层表面微孔的孔径也越大,但随电流密度增加,膜层厚度呈现先增后减的趋势。当电流密度为30A/dm2时膜层的耐腐蚀性能最好;频率在200Hz~1000Hz范围内,对应的膜层表面孔径先降后增,对膜层的耐腐蚀性能影响较小,但对膜层厚度影响较大;当600Hz时对应的膜层较厚并且膜层较致密,耐蚀性相对较好;随正占空比增加,膜层表面孔径也随之增加,膜层厚度呈现递增趋势,腐蚀速率呈现先降后增的趋势。当占空比为40%时膜层的耐腐蚀性能较佳;随微弧氧化时间增加,膜层表面孔径随之增加,数量也随之增加,而膜层的致密层厚度却呈现先增后减的趋势,对应的膜层腐蚀速率呈现先减后增的趋势,当微弧氧化时间为15min时耐腐蚀性较佳。
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