【摘 要】
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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层
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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,并采用TEM对多层线进行了表征.
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