【摘 要】
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采用复合电沉积法制备Ni/ZrO2复合层.采用X-射线衍射检测ZrO2的加入对镍镀层结构的影响,如各衍射峰的强度、金属电沉积时晶粒的择优取向.测试表明,Ni和ZrO2各自在自己特定的角度分别出现其独特的衍射特征峰,互不干扰,镀层中ZrO2含量增高,衍射强度变强.ZrO2在镀层的掺杂,镀层的晶粒尺寸由29.29nm降至21.78nm,镀层晶粒细化。
【机 构】
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天津大学,化工学院,杉山表面技术研究室,天津,300072
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采用复合电沉积法制备Ni/ZrO2复合层.采用X-射线衍射检测ZrO2的加入对镍镀层结构的影响,如各衍射峰的强度、金属电沉积时晶粒的择优取向.测试表明,Ni和ZrO2各自在自己特定的角度分别出现其独特的衍射特征峰,互不干扰,镀层中ZrO2含量增高,衍射强度变强.ZrO2在镀层的掺杂,镀层的晶粒尺寸由29.29nm降至21.78nm,镀层晶粒细化。
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