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分析了HCl的腐蚀抛光原理以及HCI在外延片制作过程中的作用。从HCl的浓度、腐蚀温度、反应室压力以及衬底条件，对HCI的腐蚀特性进行了重点研究；并采用不同的工艺条件，对HCl的腐蚀抛光速率进行了对比实验。还对HCl的BC技术进行了探索，分析了BC技术的原理以及作用，为高精度外延片的制作提供了一种有效的方法。