本文根据不同温度下氧分子平均自由程的大小,通过理论分析和已经报到的实验数据,比较了小孔、中孔和大孔中Knudsen扩散、过度扩散和分子扩散速度与煤焦表面燃烧速度的大小,结果表明:在相同温度下,分子扩散速率比过度扩散速率大约1-2个数量级,而过度扩散比Knudsen扩散大约1-2个数量级;颗粒表面分子扩散速率比氧化反应速率大1个数量级以上,过度扩散速率与氧化反应速率相当,其对应的孔径一般大于15-50nm,因此,氧化多发生在浅层内表面;温度小于900K时,燃烧速率比Knudsen扩散速率小1-5个数量级,扩散孔径小于15-21nm,反应主要在内表面进行;温度为900-1600K时,燃烧速率与Knudsen扩散速率相当,扩散临界孔径21-38nm,反应在外表面及浅层内表面进行,温度大于1600K时,Knudsen扩散速率比燃烧速率比燃烧速率小1个数量级,孔径38-50nm以下内表面下碳的氧化速度受扩散控制.煤焦的氧化主要发生在Knudsen扩散临界孔径以上的内表面,在反应温度范围内通常是10-50nm,该内表面积为有效反应比表面积.