氮化铟的分子束外延生长和掺杂研究

来源 :第七届全国光子学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guohl_sh
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自从2001-02年实验证明氮化铟(InN)室温下的禁带宽度约为0.7 eV,而不是以前认定的1.9 eV以来,关于InN的研究成为国际上氮化物研究的一个重要方向。其窄禁带的实验确认,使得Ⅲ族氮化物及其合金(InN-GaN-AIN)的带隙可以在0.63~6.2 eV之间调节,发光区域涵盖了紫外到红外的一个相当宽的范围,大大拓宽了氮化物光电器件的应用范围,比如说InGaN的带宽完全覆盖了太阳光谱的范围,因而可以利用氮化物单体系材料来制作高效率的太阳能电池;再比如,利用InN基量子阱材料有可能实现在光通讯波段的激光器件。
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