【摘 要】
：
利用双辉光放电技术以氩气为溅射/放电气体,在不同的温度(700.C、800.C、900.C)下溅射钨靶,在铜为基底上,制备钨铜合金,钨镀层的晶体取向通过XRD来表征,表面形貌通过SEM
【机 构】
：
等离子体物理材料实验室北京印刷学院102600
论文部分内容阅读
利用双辉光放电技术以氩气为溅射/放电气体,在不同的温度(700.C、800.C、900.C)下溅射钨靶,在铜为基底上,制备钨铜合金,钨镀层的晶体取向通过XRD来表征,表面形貌通过SEM来观测,通过金相做w/cu合金的截面,然后利用EDS来测量截面的元素分布.此外,对不同温度下制各的W/Cu合金的耐磨性、抗电化学腐蚀能力、机械性能进行了测试.结果显示：温度对实验的影响很大,随着温度的升高,W/Cu合金的膜厚增加,且表面形貌更加致密平滑,合金的性能如：摩擦磨损、抗电化学腐蚀、硬度都得到很大的提高,通过实验证明,利用双辉光技术可以成功制备W/Cu合金.
其他文献
本文利用热蒸发和等离子体化学气相沉积( Plasma Chemical Vapor Deposition,PCVD)相结合的方法制备了具有较高的光吸收系数、质量较好的SnS薄膜.利用FSEM,AFM,XRD,EDX,U
A highly catalytic monodispersed platinum nanoparticles were synthesed with carbon nanotuubes using a new green procedure of plasma assisted reduction that
实验分别以氩气和氮气作为放电气体，采用射频电源(13.56MHz)在大气压下进行单介质阻挡放电.氮气单介质放电和高电压下的氩气单介质放电都会形成微放电通道，在石英介质一面