TiN涂层的耐磨性及其在冷挤压模上的应用

来源 :中国机械工程学会第三届全国青年学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:newnew111
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
采用多弧离子镀技术对W6Mo5Cr4V2材料制造的高速冷挤压模进行TiN涂层处理,并对涂层的表面硬度、滑动摩擦系数和冲击磨损性能进行了分析与讨论。结果表明:涂层的高硬度、低摩擦系数和优良的耐冲击磨损性能大大地提高了冷挤压模的使用寿命。
其他文献
介绍了喷射共沉积装置及Ni〈,3〉Al-Mo/TiB〈,2〉复合材料的制备工艺,给出了最佳工艺参数范围。
TiNi记忆合金连接接头用作连接由多根钢丝拧绕而成的绳状物体,其工作原理与记忆合金管接头类似。研究证实,采用Ti-50.4Ni(at℅)记忆合金、结构为外大加内置附件的接头用于Х8.5mm钢丝绳连接获得了极好
综述了近三四年来TiAl基复合材料在复合方法、界面反应与界面稳定性以及力学性能诸方面的研究进展。在分析已有数据的基础上,强调了纤维尺寸与涂层对改善TiAl基复合材料力学性能的作用
TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一.研究了剥离工艺(lift-off)用于TiNi薄膜图形化的可行性,并首次利用溅射的金属Pt作掩膜进行TiNi薄膜湿法腐蚀.结
利用示差扫描热分析仪、扫描电镜和能谱仪系统研究了Ni含量和时效对TiNi形状记忆合金R、马氏体相变温度,相变热滞的影响。结果表明,马氏体相变温度和热滞与Ni含量和时效工艺有关。R相变温
用DCPCVD法在WC基硬质合金上沉积TiN薄膜,对膜的晶体取向、膜中杂质元素氯的存在形态和薄膜的宏观应力状态进行了研究。晶体取向取决于沉积方法和工艺条件。氯以钛的低价氯化物TiCl〈,x〉(x<4)的形态
用三靶直流反应磁控溅射仪,通过改变玻璃基片温度(350~500℃),在浮法玻璃上镀膜,制备了玻璃/TiO/TiN/TiO阳光控制镀膜玻璃.用Beckman UV 5240 光谱仪和X射线光电子能谱仪(XPS)
文章研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数:磁场、弧电流、偏压和氮气流量对膜层质量的影响,详细了它们的影响膜层特性的原因。实验证明:提高弧电流的同时,抑制液滴的产生,是
根据锌合金熔点低的特点,主要从膜层的相结构、膜层的表面形貌以及膜层的附着力等三方面,深入地研究了沉积TiN装饰膜的工艺。文中指出:弧电流40A、氮气分压2.5-4Pa、负偏压300~35
该文采用循环伏安法研究了由水相溶胶-凝胶途径制得的TiO〈,2〉薄膜的电致变色特性,在1MHCI溶 ,经150℃和350℃处理的TiO〈,2〉薄膜在630nm处的着色效率分别为8.8、4.9cm〈’2〉/C,但循环稳定性都较差,在1MLiClO〈,4〉的碳酸丙烯