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MCVD工艺生产的非零色散位移单模光纤,色散和衰减是衡量光纤指标的主要参数之一,为了保证1550um窗口处的衰减控制在0.20dB/km以下,本文结合实际生产,针对MCVD工艺制备非零色散位移单模光纤,提出了降低控制衰减的要点和方法.
基于MCVD工艺制备非零色散位移单模光纤衰减的优化技术
【摘 要】
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MCVD工艺生产的非零色散位移单模光纤,色散和衰减是衡量光纤指标的主要参数之一,为了保证1550um窗口处的衰减控制在0.20dB/km以下,本文结合实际生产,针对MCVD工艺制备非零色
【机 构】
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富通集团有限公司浙江省光纤制备技术工程技术研究中心
【出 处】
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第六届中国通信光电线缆产业峰会
【发表日期】
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2013年期
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