【摘 要】
:
为了获得性能优良的球形氧化铝粉末并使之在高端产品中获得应用。本文采用射频耦合Ar-O2热等离子体作为高温热源对氧化铝粉末进行球化处理实验研究。实验结果表明,当送粉量为35 g/min时,球化后的氧化铝粉末表面极光滑,而且颗粒与颗粒之间没有粘连,分散性好,球化率几乎达到了100%。
【机 构】
:
核工业西南物理研究院,四川成都610041
【出 处】
:
第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会
论文部分内容阅读
为了获得性能优良的球形氧化铝粉末并使之在高端产品中获得应用。本文采用射频耦合Ar-O2热等离子体作为高温热源对氧化铝粉末进行球化处理实验研究。实验结果表明,当送粉量为35 g/min时,球化后的氧化铝粉末表面极光滑,而且颗粒与颗粒之间没有粘连,分散性好,球化率几乎达到了100%。
其他文献
引言在利用Ar/SiH4/H2沉积微晶硅薄膜的过程中,SiH4浓度是非常重要的参数,其大小决定薄膜的结构和沉积率.然而,在大气压下混合气体Ar/SiH4/H2沉积微晶硅薄膜的过程中,SiH4浓度变化对放电过程中微晶硅薄膜沉积有重要影响的各种粒子密度分布的影响还不是完全了解.因此,本文研究SiH4浓度变化对硅薄膜沉积产生影响的粒子(包括电子SiH3、原子H等)密度在二维空间分布的影响.
随着人们对低温等离子体的认识和发展,低温等离子体技术在燃烧改进中的应用前景己引起了普遍的关注。作为低温等离子体发生的主要方式之一,介质阻挡放电结构的设计和优化、参数的调整和设置均对燃烧强化起着重要作用。本文基于介质阻挡放电低温等离子体的自身性质,在100KW的微型燃气轮机燃烧室中通过先进的光学燃烧诊断技术——OH_PLIF技术研究了DBD低温等离子体对燃料及可燃气的活化作用。在燃烧过程中监测出OH
大体积空气等离子体近年来受到广泛重视,许多学者试图通过各种方法得到稳定可靠的等离子体.然而,到目前为止,产生大体积的空气等离子体仍然是一个十分热门但富有挑战的研究领域.这是因为通过气体放电方式得到较大体积的等离子体,常常需要很高的放电电压(用于击穿稠密空气),在此过程中较高的电压会诱发放电不稳定性,使得放电难以维持.
Electrical Diagnostics in plasma involve the measurement of the current voltage Ⅳ, characteristic of the ion or electron current to a collector inside the Plasma and at the surface.The main techniques
A plasma column was used to transmit radio frequency (RF) signal.The plasma column was produced in a long glass tube filled with low-pressure argon.The transmission, reflection and radiation of RF sig
A two-dimensional fluid simulation has been conducted to investigate coil geometry depend of planar-type inductively coupled plasma discharge for a better performance of a RF ion source.Two dimension
引言流动控制在航空领域有很大的作用,可以减少飞行器飞行阻力,减少噪音,提高升阻比,使飞行器更加快速平稳高效地运行.沿面介质阻挡放电(Surface DielectricBarrier Discharge,SDBD)等离子体流动控制技术相对于以往的机械结构来说有很多优点:没有机械活动部件,结构简单,重量轻,能耗低,反应快速等,已经成为近十几年来的热门研究领域之一.
本文设计了一种常压射频介质阻挡等离子体喷枪,喷枪产生的长条状大面积等离子体从喷枪下方直接喷射到待清洗的硅片表面,与光刻胶发生反应。本文研究了喷枪的放电特性及喷枪去胶速率的影响因素。实验测量了喷枪在氩气4 L/min,氧气20mL/min,电源功率230 W时的电流电压波形,结果表明,电流波形超前电压波形,呈现出典型的容阻性;在电流波形的每个半周期内只出现了一个较大的电流峰值,该喷枪放电属于射频辉光
A special designed brush-shape plasma device has been reported to generate large area and uniform cold plasma at atmospheric pressure for biomedical applications.This homogeneous brush-shape plasma ca
Vacuum arcs are widely applied as plasma sources for ion guns, accelerators, and plasma processing devices.One important feature of the vacuum arc plasma is that not only metal ions but also nonmetal