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本文采用蒸发和溅射的制备工艺在ZnO薄膜上制作Au薄膜,研究不同沉积方法对Au膜结构的影响,表明溅射比蒸发制备的薄膜致密性更好.重点研究了不同溅射功率对成膜及对Au膜下ZnO薄膜电阻的影响,结果表明采用溅射工艺在100W溅射功率的条件下制备的Au薄膜结构较好且对ZnO电阻影响最小.
不同薄膜沉积工艺对Au结构和ZnO电阻性能的影响
【摘 要】
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本文采用蒸发和溅射的制备工艺在ZnO薄膜上制作Au薄膜,研究不同沉积方法对Au膜结构的影响,表明溅射比蒸发制备的薄膜致密性更好.重点研究了不同溅射功率对成膜及对Au膜下ZnO
【机 构】
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中国工程物理研究院电子工程研究所 四川绵阳621999
【出 处】
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第十三届全国敏感元件与传感器学术会议
【发表日期】
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2014年期
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