Mg金属离子插层二硫化钼的制备和表征

来源 :2016年全国矿物科学与工程学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fang19902009
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我国辉钼矿储量丰富,其主要成分二硫化钼(MoS2)具有类石墨烯的层状结构,是典型的层状过渡金属硫化物,具有丰富的物理和化学特性.本研究通过剥层-重堆积法在纳米级MoS2层间引入了Mg金属客体离子,从而制备出Mg插层MoS2 (Mg-MoS2).扫描电镜分析表明,插层后的MoS2微观形貌为颗粒状.X射线衍射分析表明,Mg-MoS2层间距由原来的0.62nm增加到1.2 nm.进一步研究发现,Mg-MoS2中Mg是以水合离子的形式存在于MoS2层间.经一定温度的退火处理可以将层间的水分子逐步去除,同时伴随层间距的不断减小.另外还发现通过正丁基锂与MoS2制备的Li插层MoS2前驱体结构不稳定,但Mg-MoS2结构十分稳定.此外,可通过调控合成条件得到不同Mg离子浓度插层的MoS2样品.以上结果将为后续研究金属客体离子插层对MoS2特性(如储锂性能)的影响提供必要的基础.
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