【摘 要】
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叙述了用平面工艺技术制备Si-PIN低能x射线探测器的工艺方法。为了减小探测器的漏电流，采用了表面钝化和保护环技术。文章给出了厚度500μm，灵敏面积分别为5mm^2、10mm^2的不同
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叙述了用平面工艺技术制备Si-PIN低能x射线探测器的工艺方法。为了减小探测器的漏电流，采用了表面钝化和保护环技术。文章给出了厚度500μm，灵敏面积分别为5mm^2、10mm^2的不同探测器在室温下漏电流测量结果以及5mm^2的探测器在室温及温差电致冷条件下对拍Fe5．9keV X射线的能谱响应测量结果。
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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技
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