【摘 要】
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对介质薄膜光学常数和厚度的准确测定，不论是在基础研究，还是在技术应用中都有着重要意义。本文提出一种改进后的仅由薄膜的透射光谱确定其光学常数和厚度的最优化方法，该方法具
【机 构】
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华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074
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对介质薄膜光学常数和厚度的准确测定，不论是在基础研究，还是在技术应用中都有着重要意义。本文提出一种改进后的仅由薄膜的透射光谱确定其光学常数和厚度的最优化方法，该方法具有简洁、精度高、对薄膜厚度限制小、易于引入物理约束、可用于吸收薄膜以及多层薄膜等优点。对目前常用的两种光学薄膜材料——五氧化二钽和二氧化硅进行了最优化方法模拟，得到了它们的光学常数和厚度的修正值，将这些修正后的参数应用于薄膜的设计和生产中，能够使膜系的设计和镀制准确地统一起来。
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