【摘 要】
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本文用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜等手段表征了在不同ECR功率辅助下的溅射沉积薄膜,结
【机 构】
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复旦大学化学系激光化学研究所(上海)
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本文用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜等手段表征了在不同ECR功率辅助下的溅射沉积薄膜,结果显示ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构.但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利用N的插入.最佳的实验条件是在ECR200W辅助下沉积的LiPON薄膜,它的电导率估计为8*10<-6>S/cm.讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理.
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