三元Ga<,x>In<1-x>P和四元(Al<,x>Ga<1-x>)<,0.51>In<,0.49>P

来源 :全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jjjjjj8610
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测量了室温下三元Ga<,x>In<1-x>P和四元(Al<,x>Ga<1-x>)<,0.51>In<,0.49>P(X=0.29)合金背散射配置下的喇曼光谱。三元Ga<,x>In<1-x>P的喇曼谱表现为双模形式,在DALA带上叠加了FLA模,在有序样品中观察到了类GaP的TO<,1>模和类InP的TO<,2>模,类GaP的LO<,1>模和类InP的LO<,2>模的分裂,表示有序度的b/a比从无序样品的0.40变化到有序样品的0.10,有序样品b/a比的降低是由于TO<,1>模和LO<,1>模分裂的影响所造成的。四元(Al<,x>Ga<1-x>)<,0.51>In<,0.49>P为三模形式,观察到了双峰结构的FLA模,由于Al组分的影响,类GaP的LO模成了类InP的LO模的肩峰。所有模式与经验公式吻合得很好。
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