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TaCuNiFeFeMn多层膜中Cu的表面偏聚
【机 构】
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姜宏伟,于广华,朱逢吾,赖武彦
【出 处】
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第三届全国磁性薄膜与纳米磁学学术会议
【发表日期】
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2001年7期
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