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利用纯化离子注入型硅面结探测器测量浓度的研究
利用纯化离子注入型硅面结探测器测量浓度的研究
来源 :全国核电子学与核探测器学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luoding
【摘 要】
:
利用法国施卢姆贝格公司的纯化离子注入型硅面结探测器样品EPX—25—300,以[**]Fe,[**]Pu和[**]Am作X射线源,配合国产核仪器插件,进行浓度测量研究,获得了良好的信噪比([**]Pu的信
【作 者】
:
刘雨人
王永海
邢丽娜
【机 构】
:
黄河水利委员会水利科学所
【出 处】
:
全国核电子学与核探测器学术会议
【发表日期】
:
1984年期
【关键词】
:
纯化
离子注入
硅面
探测器
测量研究
信噪比
仪器插件
射线源
样品
浓度
法国
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利用法国施卢姆贝格公司的纯化离子注入型硅面结探测器样品EPX—25—300,以[**]Fe,[**]Pu和[**]Am作X射线源,配合国产核仪器插件,进行浓度测量研究,获得了良好的信噪比([**]Pu的信噪比为6∶1;[**]Fe的信噪比为3∶1)。该探测器对[*
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制造Si(Li)x射线探测器的进展
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同轴Ge(Li)探测器的快中子辐射损伤
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会议
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NTD硅探测器
用NTD硅单晶做了十三根锭条,其中九根的ρ≥10KΩcm,切片厚度为2至3mm;另外四根的ρ为5KΩcm至7KΩcm,切片厚度为0.6至1.0cm。分别制成了耗尽层厚为1.5至2.0mm和0.3至0.6mm探测器
会议
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硅探测器
放射性治疗
中子通量
仪表刻度
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内外制
耗尽层
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应用
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屏蔽
结构
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工艺
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会议
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硅材料
能量分辨
特性测量
实验
金硅面垒
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均匀性
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小型
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能谱
技术
硅片
估价
腐蚀
伏安
APPLEⅡ微计算机X射线分析系统
APPLEⅡ微计算机X射线分析系统,是为能量色散X荧光分析而设计的,配合适当的同位素X射线激发源,可分析元素序数16(硫)以后的各元素,亦可用于分析其它脉冲幅度。为Si(Li)探测器和谱仪模
会议
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同轴Ge(Li)探测器灵敏体积的确定
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会议
同轴
探测器
线束
灵敏体积
峰值
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