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利用剥层分析技术对已知失效的ＨｇＣｄＴｅ光导探测器进行逆向分析，研究了器件制造过程中主要工艺引入的相关缺陷以及形貌，寻找器件失效原因，并分析了工艺损伤与器件电性能的关系。
Hg Cd Te光导探测器的失效分析
【摘 要】
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利用剥层分析技术对已知失效的ＨｇＣｄＴｅ光导探测器进行逆向分析，研究了器件制造过程中主要工艺引入的相关缺陷以及形貌，寻找器件失效原因，并分析了工艺损伤与器件电性能的关系。
【机 构】
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市计量测试技术研究院
【出 处】
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全国计量测试学术大会
【发表日期】
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1998年期
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