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采用有机前驱体方法在聚酰亚胺的表面制备了聚硅氮烷涂层。通过地面模拟装置对制备涂层的抗原子氧/紫外性能进行了研究。原子氧暴露实验表明，施加涂层后聚酰亚胺的原子氧侵蚀系数下降了约2个数量级。这是因为在原子氧暴露过程中涂层表面能够生成一层惰性的富SiO2层，从而阻止原子氧对涂层的进一步侵蚀。在原子氧、紫外协同暴露下，紫外辐照能够加速表面富SiO2层的形成，反而使得涂层的原子氧侵蚀系数进一步降低。因此，所制备的聚硅氮烷涂层具有良好的抗原子氧/紫外侵蚀性能。