【摘 要】
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采用对向靶直流磁控溅法制备了FePt(Cu)-C颗粒膜.X射线光电子能谱分析结果表明制备态薄膜中的各元素均以单质形式存在,透射电子显微镜分析表明制备态样品为非晶的金属颗粒镶
【机 构】
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天津大学理学院现代材料物理研究所(天津);天津市薄膜物理及低维材料设计重点实验室(天津)
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采用对向靶直流磁控溅法制备了FePt(Cu)-C颗粒膜.X射线光电子能谱分析结果表明制备态薄膜中的各元素均以单质形式存在,透射电子显微镜分析表明制备态样品为非晶的金属颗粒镶嵌在非晶态的碳母体中,650℃退火的样品由有序的L1<,0>结构的FePt或FePtCu颗粒镶嵌在石墨状的碳母体中.磁性测量结果表明制备态样品为超顺磁性,退火样品为铁磁性,并且退火FePtCu-C颗粒膜的面内矫顽力高达~7170Oe.
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