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针对电流变抛光设备抛光工件时高定位精度、高响应速度、强抗干扰能力的加工要求，本文研制了一套位移控制系统。该控制系统采用闭环控制保证定位精度，采用模糊PID控制算法保证系统的高响应速度、强抗干扰能力。文中使用Simulink及Fuzzy工具箱对控制系统进行了仿真，将模糊PID控制与常规PID控制进行了对比，并在抛光设备上进行了实际验证。实验结果证明，本文研制的位移控制系统定位精度高，响应速度快，能够满足加工精度要求。