Hydrogen plasma induced crystallization of Si∶H thin films by remote inductive coupled plasma source

来源 :2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：junar

【摘要】

：

Hydrogenated microcrystalline silicon thin films (μc-Si∶H) were deposited by remote inductive coupled plasma (ICP) assistant pulsed dc twin magnetron sputteri

【作者】

：

Yuanjun Su Mingzhu

【机构】

：

Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams(Dalian University of Techn

【出处】

：

2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议

【发表日期】

：

2011年期

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Hydrogenated microcrystalline silicon thin films (μc-Si∶H) were deposited by remote inductive coupled plasma (ICP) assistant pulsed dc twin magnetron sputtering at a temperature below 300℃.

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