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Bi2Te3/Bi2Se3拓扑绝缘体纳米片的可控生长及表面取向的研究
【机 构】
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浙江大学电子显微镜中心,材料科学与工程学系,硅材料国家重点实验室,浙江 杭州 310027
【出 处】
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2015年全国电子显微学学术会议
【发表日期】
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2015年期
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