SiO纳米多孔薄膜的制备

来源 :全国第三届纳米材料和技术应用会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:genglb119
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SiO<,2>纳米多孔薄膜是超大规模集成电路(ULSI)互连系统的最佳候选绝缘介质之一.本文以正硅酸乙酯、异丙醇、去离子水、盐酸、氨水为原料,采用溶胶-凝胶工艺、旋转涂胶工艺及超临界干燥工艺制备纳米多孔SiO<,2>薄膜.研究了溶剂异丙醇用量及与溶胶粘度变化的关系,考察了溶胶粘度和匀胶转速对匀胶均匀性的影响,并对纳米多孔SiO<,2>薄膜的微观形貌以及截面结构进行了分析.
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