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本文介绍了包装领域中阻隔薄膜的几种基本的制备技术，并对其技术原理和技术特点做了简要的概述，重点介绍普通包装薄膜表面沉积纳米SiOx作为阻隔材料的优越性和制备方法。纳米氧化硅薄膜制备包括：物理气相沉积，化学气相沉积两种。物理气相沉积技术较成熟，已广泛用于当今的众多薄膜生产厂家；化学气相沉积技术由于沉积速率慢，生产成本高，耗资大，限制了工业化应用。本文还介绍了一种能够克服了上述限制因素的新技术，从而使薄膜的阻隔性能大大提高。