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ＬＩＧＡ工艺技术包括光刻、电铸和塑铸三个重要环节。而深层同步辐射光刻掩膜技术是Ｘ射线光刻应用的关键之一。作者采用聚酰亚胺为衬基，以电铸金结构作为吸收体，制作出了Ｘ射线掩膜，并进行了深层同步辐射Ｘ射线光刻实验研究。
ＬＩＧＡ技术中的Ｘ射线掩膜
【摘 要】
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ＬＩＧＡ工艺技术包括光刻、电铸和塑铸三个重要环节。而深层同步辐射光刻掩膜技术是Ｘ射线光刻应用的关键之一。作者采用聚酰亚胺为衬基，以电铸金结构作为吸收体，制作出了Ｘ射线掩膜，并进行
【机 构】
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科学院长春光学精密机械研究所
【出 处】
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第四届全国敏感元件与传感器学术会议
【发表日期】
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1995年期
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