MOCVD用于生长InAsGaAs量子点研究

来源 :湖北省物理学会、武汉物理学会2015学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Heavenws
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实验研究采用MOCVD技术生长量子点.影响量子点MOCVD生长的因素有衬底、环境压强、生长温度、沉积速率、沉积厚度、材料Ⅴ/Ⅲ流量比、生长停顿,应力缓冲层等.主要通过实验研究了温度、沉积速率、沉积厚度及Ⅴ/Ⅲ流量比对量子点生长密度的影响.通过优化生长条件,当前最佳生长条件是采用量子点生长温度500℃,沉积速度0.074ML/s,沉积厚度1.7ML,Ⅴ/Ⅲ为10,获得了量子点密度为5×109/cm2分布较均匀的量子点.
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