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基于UDM的纳米交叉结构器件伏安特性曲线模拟方法
基于UDM的纳米交叉结构器件伏安特性曲线模拟方法
来源 :第七届中国纳米科技(西安)研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:buyaodiua1
【摘 要】
:
本文通过对UDM模型原理的分析,提出了对于纳米交叉器件适合的拟合精度高,拟合公式相对比较简单的方法,并讨论了各种因素对拟合结果产生的影响。该方法能够有效地模拟纳米交叉
【作 者】
:
张玉彬
邓明堂
朱玄
易勋
唐玉华
【机 构】
:
计算机学院,国防科技大学,长沙,湖南 410073,中国
【出 处】
:
第七届中国纳米科技(西安)研讨会
【发表日期】
:
2008年期
【关键词】
:
纳米
交叉结构
器件
安特性曲线
拟合精度
拟合结果
拟合公式
双稳态
模型
模拟
磁滞
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本文通过对UDM模型原理的分析,提出了对于纳米交叉器件适合的拟合精度高,拟合公式相对比较简单的方法,并讨论了各种因素对拟合结果产生的影响。该方法能够有效地模拟纳米交叉结构的双稳态磁滞型伏安特性曲线。
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