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新型MPCVD装置制备大面积CVD金刚石膜的研究
【机 构】
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武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073
【出 处】
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第十五届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
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2011年期
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