【摘 要】
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在大气压下,利用非平衡等离子体枪,以四乙氧基硅(TEOS)为先驱体,沉积二氧化硅薄膜。实 验中,以氮气和少量氧气的组成的混合气体作为等离子体的发生气体。以氮气作为TEOS 载气,并
【机 构】
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浙江大学无机非金属材料研究所,杭州 310027
【出 处】
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第十二届全国青年材料科学技术研讨会
论文部分内容阅读
在大气压下,利用非平衡等离子体枪,以四乙氧基硅(TEOS)为先驱体,沉积二氧化硅薄膜。实 验中,以氮气和少量氧气的组成的混合气体作为等离子体的发生气体。以氮气作为TEOS 载气,并在 60sccm~160sccm 之间调节流量。通过光学椭偏仪、红外光谱(FTIR) 、扫描电镜(SEM) 对所沉积的薄膜进 行表征。结果表明,在硅衬底表面沉积得的薄膜为多孔的包含OH 基团的二氧化硅薄膜,且在薄膜的表面 嵌球状颗粒。随着TEOS 流量的增加,除了薄膜沉积速率成线性增长外,薄膜中OH 基团含量,颗粒含量 和尺寸,以及薄膜的多孔性都相应地增加或增大。这表明,以氮气为等离子体的发生气体,在大气压下,利用非平衡等离子体枪沉积二氧化硅薄膜是可行的,通过改变流量参数可以实现对薄膜性能的调控。
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