Automatic Laser Interference Lithography System for Nanofabrication

来源 :2012年全国光学工程博士生论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:orc2008
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  Laser interference lithography is a promising nanofabrication technique with high efficiency andlow cost properties.In this paper,the principle of multi laser beams interference has been described andfour-beam interference patterns have been presented.In order to acquire diverse periodic interference patternseasily,a prototype of automatic multi-beam LIL system,which consisted of beam split module,interferencecontrol module,beam shaping module and sample positioning module has been proposed.
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