【摘 要】
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利用TaC15-H2-HCl反应体系,以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积钽涂层.研究了氢气流量对钽的沉积速率、涂层表面形貌、择优取向、密度和硬度的影响.研究结果表明:随着氢气流量的增加,沉积速率加快,晶粒尺寸增大,涂层表面呈类金字塔形,由体心立方结构的钽(α-Ta)构成,涂层(200)晶面方向生长最快,氢气流量变化对涂层硬度及密度影响不明显.
【机 构】
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昆明理工大学材料科学与工程学院,云南昆明6500093;昆明贵金属研究所,稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,云南昆明650106
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利用TaC15-H2-HCl反应体系,以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积钽涂层.研究了氢气流量对钽的沉积速率、涂层表面形貌、择优取向、密度和硬度的影响.研究结果表明:随着氢气流量的增加,沉积速率加快,晶粒尺寸增大,涂层表面呈类金字塔形,由体心立方结构的钽(α-Ta)构成,涂层(200)晶面方向生长最快,氢气流量变化对涂层硬度及密度影响不明显.
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