【摘 要】
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研发了工业用半导体及电子信息行业用钛青铜,价格比进口产品低10-20%,性能相当,可替代国外产品。其中靶材用Cu-3.0wt%Ti的组织、成分均匀,晶粒度40μm以下,导电率达45%IACS。采用自主知识产权的设备及热处理工艺制备的电子信息行业用钛青铜,导电率有大幅度提高,已经工业化生产了厚0.08毫米、宽175毫米的箔材,性能为:抗拉强度1121 MPa、屈服强度1053MPa,导电率11.38
【机 构】
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台州学院浙江省工量刃具检测及深加工重点实验室
【出 处】
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年中国铜加工产业年度大会暨中国(三门峡)铜产业高质量发展大会文集
论文部分内容阅读
研发了工业用半导体及电子信息行业用钛青铜,价格比进口产品低10-20%,性能相当,可替代国外产品。其中靶材用Cu-3.0wt%Ti的组织、成分均匀,晶粒度40μm以下,导电率达45%IACS。采用自主知识产权的设备及热处理工艺制备的电子信息行业用钛青铜,导电率有大幅度提高,已经工业化生产了厚0.08毫米、宽175毫米的箔材,性能为:抗拉强度1121 MPa、屈服强度1053MPa,导电率11.38%IACS（特殊处理14.95%IACS）,弹性模量E=109GPa,断后延伸率0.5%,90°折弯测试（R=0）R/T=0。（对比数据:铍青铜18-24%IACS,800MPa;NGK 10-12%IACS,1039MPa。本项目性能具有优势）,最薄可加工0.03mm的箔材,可满足工业用接触件的性能要求。
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