论文部分内容阅读
等离子体注入事件发生的前兆
【机 构】
：
科学院空间科学与应用研究中心
【出 处】
：
中国空间科学学会第二届空间环境预报高级研讨会
【发表日期】
：
1998年期
其他文献
该文介绍了Ｘ射线光刻（ＸＲＬ）技术的原理和特点，分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。摩尔定律预测，半导体工业在２００７年将使用线宽为０．１μｍ的光刻技术。采用波长为１ｎｍ左右的Ｘ射线进行接近式光
等离子体微弧氧化是在阳极氧化基础上发展起来的铝合金表面改性技术。该文较系统地描述了等离子体微弧的形成过程及其发展变化，等离子体微弧对氧化膜的物理化学作用。指出等离
等离子体隐身是一种极为重要的隐身技术，美、俄都在进行深入研究并已进入应用阶段，受到国内广泛关注。该文根据多年的研究及赴俄考察的体会，从隐身机理、试验验证和应用状况三方
该文介绍了运用高速分幅与扫描相机对真空脉冲电弧的产生、发展及其运动特性进行的初步研究结果；指出了这种电弧是以等离子体团的形式出现和向前运动的，而团的个数与推力器主放
该设计确定了等离子体发处理造纸黑液的工艺流程为：蒸发→干燥→等离子体处理→产品分离；根据物料及能量守恒定律，对该设计进行了物料和能量衡算；根据工艺运算结果进行经济分析；并