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CdS/硅纳米孔柱阵列复合材料的制备及调制
CdS/硅纳米孔柱阵列复合材料的制备及调制
来源 :中国物理学会2011年秋季学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lingyuehqu2009
【摘 要】
:
以硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)为衬底,用化学水浴法(CBD)制备了CdS/Si-NPA 纳米复合体系.衬底Si-NPA 为有三个分明层次的规则阵列结构[1]:规则阵列结构的微米级纳米孔柱,以及组成
【作 者】
:
潘庆云
李新建
【机 构】
:
郑州大学物理工程学院材料物理实验室,450052,郑州
【出 处】
:
中国物理学会2011年秋季学术会议
【发表日期】
:
2011年期
【关键词】
:
CdS
硅纳米孔柱阵列
复合材料
制备
阵列结构
纳米复合体系
化学水浴法
规则
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以硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)为衬底,用化学水浴法(CBD)制备了CdS/Si-NPA 纳米复合体系.衬底Si-NPA 为有三个分明层次的规则阵列结构[1]:规则阵列结构的微米级纳米孔柱,以及组成硅柱的纳米孔和构成孔壁的纳米级硅单晶颗粒.
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