论文部分内容阅读
利用STEPSOL计算程序研究了流化床化学气相沉积(FBCVD)SiC及Si涂层的热力学,主要分析了H〈,2〉和C〈,2〉H〈,2〉加入量以及温度因素对Si-HCl-H〈,2〉-Ar和Si-HCl-H〈,2〉-C〈,2〉H〈,2〉-Ar体系气态平衡分压和沉积产物的影响,提出了适合FBCVD沉积的有利条件。