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利用ＳＴＥＰＳＯＬ计算程序研究了流化床化学气相沉积（ＦＢＣＶＤ）ＳｉＣ及Ｓｉ涂层的热力学，主要分析了Ｈ〈，２〉和Ｃ〈，２〉Ｈ〈，２〉加入量以及温度因素对Ｓｉ－ＨＣｌ－Ｈ〈，２〉－Ａｒ和Ｓｉ－ＨＣｌ－Ｈ〈，２〉－Ｃ〈，２〉Ｈ〈，２〉－Ａｒ体系气态平衡分压和沉积产物的影响，提出了适合ＦＢＣＶＤ沉积的有利条件。