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固/液界面上高分子的行为直接影响着界面的物理和化学性质。因此,研究界面高分子行为对于理解和调控界面性质至关重要。通过带有耗散测量功能的石英晶体微天平(QCM-D),系统研究了高分子在界面上的各种行为,主要包括：温度和溶剂组成诱导的高分子刷构象变化；pH、盐浓度以及离子种类诱导的接枝聚电解质链构象变化；高分子在界面上的接枝动力学；高分子与界面上磷脂膜间的相互作用；高分子的降解；聚电解质在界面上的“层层”组装等。研究结果表明,QCM-D不但能够提供界面高分子的质量变化以及高分子膜的厚度变化等信息,而且能够提供界面高分子的结构变化信息,二者结合可得到更多有意义的信息。因而,QCM-D是研究固/液界面高分子行为的一个有力工具。