【摘 要】
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为了研制快锂离子传导的薄膜电解质,论文首次在N环境下,采用355nm脉冲激光烧蚀LiPO靶的方法,成功地制备了具有快Li离子导体特性的LIPON薄膜.FTIR和XPS的测量表明了在LIPON薄
【机 构】
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复旦大学化学系激光化学研究所(上海)
【出 处】
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第十一届中国固态离子学学术会议暨固体电化学能源装置国际研讨会
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为了研制快锂离子传导的薄膜电解质,论文首次在N<,2>环境下,采用355nm脉冲激光烧蚀Li<,3>PO<,4>靶的方法,成功地制备了具有快Li离子导体特性的LIPON薄膜.FTIR和XPS的测量表明了在LIPON薄膜中N的插入特征.Al/LIPON/Al结构的交流阻抗谱为单相离子导体谱,由脉冲激光沉积(PLD)法在N<,2>压力30Pa时制备LIPON薄膜的室温导电率为1.4×10<-6>S/cm.沉积LIPON薄膜的离子导电率与PLD的条件有关,N<,2>气压大,沉积LIPON薄膜中N含量多,离子导电率高.在LIPON薄膜中N-(P<,3>)结构的形成可能对高Li<+>传导性能起主要作用.
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