弧源靶表面弧斑的温度与涂层表面质量的关系研究

来源 :第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:asjkdhfjkhasdjklfhjk
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  目的 分析电弧离子镀弧源靶表面弧斑的温度和所制备涂层表面大颗粒的关系规律,为开发新型弧源提供实验基础.方法 采用CCD相机对阴极表面弧斑温度进行采集,利用matlab计算出阴极表面弧斑的平均温度及其分布;采用高速相机拍摄弧斑运动状态,计算其运动速度;再用高斯计测出弧斑在不同位置时的磁场强度;最后利用扫描电子显微镜对制得的涂层表面形貌进行表征,分析不同参数下涂层表面大颗粒的尺寸及其分布.结果 电弧离子镀电弧放电过程中阴极表面弧斑呈现以靶中心为圆心的圆形运动轨迹,并随着线圈电压而改变其在靶面的位置;弧斑平均温度越高,涂层表面大颗粒数量越多,尺寸越大;阴极弧斑平均温度随着线圈电压的增加而出现先升高再降低最后急剧升高的趋势;弧斑所在位置的水平磁场随着线圈电压的增加而增加;弧斑运动的角速度随着水平磁场的变大而加快.结论 当靶电流在80A-100A的范围内,线圈电压的扫描范围从20V到50V,此时靶材利用率至少可以达到74.6%,而且制得的膜层表面大颗粒数量少、尺寸小.
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