二嵌段共聚物在柱状刻蚀模板表面的复杂自组装

来源 :2014年大分子体系理论、模拟与计算研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:emydisk
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  本文利用耗散粒子动力学方法(dissipative particle dynamics,DPD)研究了二嵌段共聚物在柱状刻蚀的模板表面的自组装行为。二嵌段共聚物在本体中可以自组装形成包括层状相、六方柱状相、球状相和双连通Gyroid 相的一系列稳定有序结构,得到人们广泛的关注。而研究发现,可以通过一些人为干预的手段,使二嵌段共聚物在受限条件下生成更丰富且有实际应用价值的自组装结构。例如,可通过改变受限环境的结构、表面性质,来诱导二嵌段共聚物自组装形成纳米尺度的新颖结构,用于如集成电路板的刻蚀、纳米比特存储设备的制造等高新科技领域。
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