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会议论文
高速电路用GSMBE生长SiGeSi外延材料
高速电路用GSMBE生长SiGeSi外延材料
来源 :第六届全国分子束外延学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:QIANNENGWUXIAN
【摘 要】
:
本文简要介绍了用国产研究型GSMBE分子束外延设备生长高速电路用SiGe/Si异质结外延材料所取得的结果.
【作 者】
:
刘超
黄大定
李建平
高斐
孙殿照
朱世荣
孔梅影
林兰英
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
第六届全国分子束外延学术会议
【发表日期】
:
2001年8期
【关键词】
:
分子束外延生长
SiGe/Si
原位掺杂
半导体材料
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本文简要介绍了用国产研究型GSMBE分子束外延设备生长高速电路用SiGe/Si异质结外延材料所取得的结果.
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