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氢化锂(LiH)是重要的热核材料。其具有密度低、原子序数低等性质，可作为低能量X光散射及输运材料、轻质中子屏蔽或减速剂等。本文采用真空热压技术制备LiH薄膜。真空热压技术是在高真空环境下，同时对样品进行加热和加压，获得厚度小于100μm的氢化锂薄膜。
真空热压技术制备LiH薄膜
【摘 要】
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氢化锂(LiH)是重要的热核材料。其具有密度低、原子序数低等性质，可作为低能量X光散射及输运材料、轻质中子屏蔽或减速剂等。本文采用真空热压技术制备LiH薄膜。真空热压
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900
【出 处】
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第十一届全国核靶技术学术交流会
【发表日期】
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2011年7期
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