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在一定的抛光工艺条件下,精抛光布的选择及精抛光布使用时间的控制直接影响到最终抛光片表面小尺寸LPD缺陷的多少,因此通过实验确定适宜于自身抛光工艺的精抛布以及适宜的抛光布使用时间很有必要.
不同精抛布种类及抛布使用时间对硅片LPD缺陷影响
【摘 要】
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在一定的抛光工艺条件下,精抛光布的选择及精抛光布使用时间的控制直接影响到最终抛光片表面小尺寸LPD缺陷的多少,因此通过实验确定适宜于自身抛光工艺的精抛布以及适宜的抛
【机 构】
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麦斯克电子材料有限公司(洛阳)
【出 处】
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2004年中国材料研讨会
【发表日期】
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2004年期
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