通过阴极电沉积方法在镀铂石英晶片上制备了电活性铁氰化镍膜,并考察了膜电极在含钇离子溶液中的电控离子交换性能。在0.1mol.L-1的硝酸钇溶液中,结合循环伏安(CV)法及石英晶体微天平(EQCM)技术考察了铁氰化镍膜对钇离子的置入置出性能及对应的质量变化情况;同时比较了NiHCF膜电极在Y(NO3)3和Sr(NO3)2溶液中的电化学行为;在0.1mol.L-1[Y(NO3)3+Sr(NO3)2]混合溶液中,通过循环伏安法分析了薄膜对Y3+/Sr2+离子的选择性。用扫描电子显微镜(SEM)考察了铁氰化镍膜的表面形貌,并通过X射线光电子能谱(XPS)仪测定了膜在氧化和还原状态下的元素组成。结果表明:NiHCF膜在含Y3+溶液中具有良好的离子交换行为,其中氧化过程薄膜质量减少,对应着钇离子的置出;还原过程薄膜质量增加,对应钇离子的置入。在0~0.9V范围内通过调节膜电极的氧化还原状态可以实现NIHCF膜电极对钇离子的有效分离。