快速热处理辐照掺氮直拉单晶硅中氧沉淀的红外吸收谱研究

来源 :第十四届全国分子光谱学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:stadpole
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研究了快速热处理(RTP)对快中子辐照掺氮直拉硅中氧沉淀的作用,对不同辐照剂量的样品先进行的不同温度和降温速率的RTP,再将其与没有经历RTP的样品放入单管扩散炉中进行1100℃高温20h一步退火,保护气氛为氩气.利用常温傅里叶红外变换方法测量样品的间隙氧含量.利用低温傅里叶红外变换方法研究样品中的氧沉淀,光学显微镜用来观察样品体内的缺陷形貌.实验发现,RTP不能改变氧沉淀进程,但是低的降温速率有助于氮氧复合体及片状氧沉淀的生成.RTP温度越高,缺陷密度越低,清洁区越宽.
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