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本文用钛-硅复合靶，通过控制反应磁控溅射的各工艺参数制得了一系列Ti-Si-N膜，并借助能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)，纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析。结果发现，可方便地通过改变氮气分压的方法来调整Ti、Si元素含量比、微观组织结构及力学性能.少量氮气的加入能制得纳米硬度高达53GPa的Ti-Si-N超硬膜，而随着氮气分压的增加，膜层中TiN相和Si3N4相的比例减小，纳米硬度逐渐下降，同时，TiN晶粒的平均尺寸也逐渐减少。